075-15-2021-1350

075-15-2021-1350

075-15-2021-1350 Разработка и исследование перспективных материалов и наноструктур для технологии безмасочной рентгеновской нанолитографии, применимой к созданию новой компонентной базы микро- и наноэлектроники с использованием источника синхротронного излучения

Проректор МИЭТ по научной работе С.А. Гаврилов: «Концепция безмасочной рентгеновской нанолитографии на базе источника синхротронного излучения является новой и не имеет мировых аналогов. Освоение данной технологии может обеспечить формирование топологических элементов с размерами вплоть до уровня 10 нм. Ключевым элементом такого литографического процесса является «электронная» маска, обеспечивающая динамическое изменение топологии шаблона по заданному закону».

Проект посвящен разработке технологических и фундаментальных основ безмасочной рентгеновской нанолитографии с применением источника синхротронного излучения для создания элементной базы наноэлектроники с проектными нормами на уровне 20 нм и ниже. Будут установлены фундаментальные принципы построения рентгенооптических систем и ее элементов, обеспечивающих преобразование расходящихся пучков синхротронного излучения с нанометровыми длинами волн в П-образные пучки с высокой однородностью интенсивности на полке.

- Будут определены ключевые принципы построения проекционных объективов на основе многослойных рентгеновских зеркал нормального падения с дифракционным качеством исполнения, учитывающие специфику синхротронного источника рентгеновского излучения, характеризующегося малыми размерами источника и угловой расходимостью, и большими плотностями мощности на первом элементе.

- Будет выполнен анализ дифракционных явлений, возникающих при прохождении синхротронного излучения через динамическую маску с матрицей электрически управляемых МЭМС элементов.

- Будет создан Комплекс новых программ и методик исследований материалов и наноразмерных структур для перспективной технологии безмасочной рентгеновской нанолитографии на базе источника синхротронного излучения (включая методики синхротронных исследований).

- Будут разработаны метод и технология безмасочной рентгеновской нанолитографии для создания новой компонентной базы микро – и наноэлектроники с применением синхротронного излучения; технология изготовления матрицы МЭМС элементов динамической маски на основе новых материалов и наноструктур с переключаемым оптическим затвором и разработка электрической схемы их управления; технология изготовления многослойных рентгеновских зеркал, многослойных покрытий, обладающих высоким коэффициентом отражения в мягкой рентгеновской области излучения, а также высокопрочных свободновисящих фильтров на базе новых материалов для подавления излучения на область 9-11.4 нм и длины волн 6,6 и 10 нм.

Предусмотрена просветительская деятельность. Свыше 80 человек пройдут специальную подготовку и обучение по дополнительным образовательным программам, разработанным в рамках проекта. На обучение будут приглашаться молодые специалисты, работающие на европейских источниках. В 2021 году 10 человек уже прошли обучение по программе повышения квалификации «Синхротронное излучение в исследовании материалов и технологии микроэлектроники».

Научно-техническое сотрудничество:

Результаты по этапу № 1

Результаты по этапу № 2

Результаты по этапу № 3

Публикации о ходе проекта:

Миэтовцы получили грант Минобрнауки на реализацию проекта в области синхротронных исследований

Миэтовцы получили 300 миллионов на реализацию проекта в области синхротронных исследований

Итоги научной школы-конференции «Использование синхротронного излучения для технологии рентгеновской литографии»

Завершилась юбилейная конференция «Микроэлектроника и информатика-2023»: что обсудили ученые

МИЭТ будет готовить уникальных специалистов в области применения синхротронного излучения

В НИУ МИЭТ прошла школа «Синхротронное излучение и технологии наноэлектроники. Актуальное состояние и перспективы развития»