Основные направления научных исследований:

• Проектирование дизайна фотошаблона;
• Генерация скрытого изображения в слое резиста;
• Физико-химические процессы обработки экспонированных пластин;
• Процессы и методы автоматизированной аттестации изображения топологического рисунка фотошаблона на соответствие проектным данным;
• Процессы и методы устранения недопустимых дефектов маскирующего покрытия фотошаблонов.