МИЭТ и компания Vistec начали работу над совместным проектом в области электронно-лучевой литографии
МИЭТ и немецкая компания Vistec Electron Beam GmbH – передовой изготовитель и поставщик электронно-лучевых установок экспонирования – намерены сотрудничать в рамках высокотехнологичного проекта по производству фотошаблонов, который недавно стартовал в России.
«После запуска и наладки технологической линии Центр проектирования и изготовления фотошаблонов (на площадях МИЭТа) сможет снабжать отечественную полупроводниковую промышленность и научно-исследовательские институты фотошаблонами, изготовленными по передовой технологии и применяемыми для самых разнообразных прикладных задач», - заявил Владимир Беспалов, первый проректор МИЭТа. «Наряду с изготовлением фотошаблонов важную роль в нашем новом Центре играет образовательная и научная деятельность. МИЭТ выбрал установку электронолитографии с изменяемым сечением электронного пучка компании Vistec, так как эта система отличается не только превосходными литографическими параметрами, высокой степенью гибкости и зарекомендовавшей себя на практике надёжностью, но и высокой комфортностью обслуживания», – добавил Владимир Беспалов.
Выпущенная компанией Vistec установка электронолитографии с изменяемым сечением электронного пучка и с ускоряющим напряжением в 50кВ оснащена полностью автоматической системой загрузки/разгрузки подложек. Установка подготовлена для экспонирования разнообразных типов и размеров подложек.
«Мы очень горды, что нам представилась возможность сотрудничать с МИЭТом и принять участие в реализации проекта по производству фотошаблонов», – заявил Вольфганг Дорл, генеральный директор компании Vistec Electron Beam GmbH. Электронно-лучевая установка, которую мы недавно отправили в МИЭТ, отражает продолжение развития тех долголетних традиционных коммерческих отношений, которые наша компания имеет с Россией. Мы надеемся, что всё это позволит открыть нам новые, интересные возможности на быстро развивающемся российском рынке.»
Для справки:
Vistec Electron Beam Lithography Group
Консорциум Vistec Electron Beam Lithography Group – это глобальный изготовитель и по¬ставщик электронно-лучевых установок экспонирования, применяемых в таких передовых отраслях как в нанотехнологии, биотехнологии и в фотонике. Литографические установки, выпущенные консорциумом Vistec, широко используются всеми крупными изготовителями полупроводниковых изделий для получения эталонных фотошаблонов и в области элек¬тронно-лучевой литографии с непосредственным формированием изображения для маке¬тирования и для оценки дизайна микросхем (СБИС). В состав консорциума Vistec Electron Beam Lithography Group входят фирмы Vistec Electron Beam GmbH и Vistec Lithography Inc.